apcvd
常压化学气相沉积法（APcvD）：常压化学气相沉积法是最早研发的CVD系统。在 大气压环境下操作，APCVD技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单 ...
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常压化学气相沉积法 APCVD ; Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition
常压热化学气相沉积 APTCVD
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本研究采用常压化学气相沉积（CVD）的方法在金属铝基底上制备出硅氧化合物陶瓷膜层。
A new kind of silicon oxidic film on aluminum was prepared by chemical vapor deposition (CVD) in ambient pressure.
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