multi-arc ion deposition 多弧离子镀
multi arc ion deposition 多弧离子沉积
vacuum arc ion deposition 真空电弧离子镀
Pulsed vacuum arc ion deposition 脉冲真空电弧离子镀
ZHOU S, YAN Y X. Structure and mechanical properties of DLC films by pulsed vacuum arc ion deposition[J]. Vacuum, 2005,42(2):15-18.
[12] 周顺，严一心。脉冲真空电弧离子镀在不锈钢上沉积类金刚石薄膜的研究[J]。真空，2005，42（2）：15-18。
The system include pulse cathodic arc ion deposition, direct current cathodic arc ion deposition, magnetic sputtering and electronic beam evaporation technologies.
该系统集脉冲阴极弧离子镀、直流阴极弧离子镀、磁控溅射和电子束蒸发等镀膜工艺以及气体和金属离子注入于一体。
Ion energy is an important parameter influencing the quality of films by pulsed vacuum arc ion deposition, so it is very necessary to measure the ion energy of pulsed arc.
离子能量是影响脉冲真空电弧离子镀镀膜质量的一个重要参数，因而测量真空电弧中离子的能量非常重要。
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