低压化学气相沉积法(low pressure CVD) 就是在进行薄膜沉积时,反应器内的气体压力调降到大约100torr以下的一种化学气相沉积反应。
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low-pressure chemical vapor deposition 低压化学气相沉积 ; 低压化学汽相沉积 ..
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低压化学气相沉积法 LPCVD ; Low Pressure CVD ; Low Pressure Chemical Vapor Deposition
超低压化学气相沉积 VLPCVD
低压化学气相沉积系统 Low Pressure Chemical Vapor Deposition ; LPCVD
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