【摘要】： 采用单源化学气相沉积法(SSCVD)法在(012)面Al_2O_3村底上制备出a面(110)的非极性ZnO薄膜。
基于8个网页-相关网页
Single source chemical vapor deposition
...2006)05-0766-07 以Zn4(OH)2(O2CCH3)6·2H2O为单一固相有机源,采用单源化学气相沉积法(Single source chemical vapor deposition, SS CVD)在Si (100)衬底上制备ZnO薄膜,用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)分析ZnO薄膜..
基于2个网页-相关网页