2．2原子层沉积技术的原理 ALD是一种化学气相薄膜沉积技术，又称原子层化学气相沉积（ALCVD）， 但与传统CVD工艺有所不同。
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电子构装,铜制程,原子层化学气相沉积(Atomic Layer CVD), 半导体制程,光电构装 涂肇嘉 兼任教授
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Atomic Layer Chemical Vapor Deposition
...D），最初称为原子层外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），也称为原子层化学气相沉积（Atomic Layer Chemical Vapor Deposition，ALCVD）。
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短语
或原子层化学气相沉积
Atomic Layer Chemical Vapor Deposition