...的材料沉积，但仍具有相同的沉积厚度，改善阻抗层的一致性和均匀性，就45奈米制程来说，原子层沉积法（Atomic Layer Deposition，ALD）是较为适用的，利用Molecular-Level的控制，可以达到100％的Step Coverage...
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...沉积，但仍具有相同的沉积厚度，改善阻抗层的一致性和均匀性，就45奈米制程来说，原子层沉积法（Atomic Layer Deposition，ALD）是较为适用的，利用Molecular-Level的控制，可以达到100％的Step Coverage...
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