常压化学气相沉积法（APcvD）：常压化学气相沉积法是最早研发的CVD系统。在 大气压环境下操作，APCVD技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单 ...
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Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition
...该作者 纤维二氧化钛掺杂复合及光催化性质研究 本文采用常压化学气相沉积法(Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition，APCVD)制备了TiO纤维及其掺杂复合催化剂，通过各种现代分析手段对制得的催化剂进行了表征；并进行了光催化活性...
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