...45nm 器件工艺中，使用的曝光光源仍然是 193nm 第4 页 共28 页 光源，在此工艺中使用了浸入式光刻技术（Immersion Lithography）， 成功解决了用193nm 光源曝光45nm 器件的难题。
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浸入式光刻技术
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Immersion lithography
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