波长为13.5纳米的深紫外光刻（EUVL）是行业推动摩尔定律的期望。深紫外光刻面临的挑战是缺乏高功率源、高速光刻胶、无缺陷而高平整度的掩模带来的延时。
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deep ultra-violet lithography
2、深紫外光刻(DUV,Deep Ultra-Violet Lithography)经由过程缩小光源的波长来改善分辨率。F2的准份子激光光源157nm。
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2、深紫外光刻(DUV,Deep Ultra-Violet Lithography)经由过程缩小光源的波长来改善分辨率。F2的准份子激光光源157nm。
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