...镀：是指金属通过水传导到工件表面（产品需浸入含金属离子的水内）真空电镀=PVD(pvd指Physical Vapor Deposition（物理气相沉积）指在真空环境下把金属气化在电场作用下传导到工件表面看参考资料即可 真空电镀的相关搜索: 东莞市真空电镀喷涂厂 真空电镀的优点...
基于3535个网页-相关网页
目前制备TiN涂层的主要方法有化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)。化学气相沉积需要含钛氯化物(TiCl4)作为反应气体,该气体对设备有腐蚀作用,且对环境有较大的污染,这些均与目前所提倡的绿色工业...
基于2168个网页-相关网页
1．3-3微波．ECR等离子体源离子注入的主要特点 本实验采用等离子体增强物理气相沉积（PEPVD）的方法，利用大连理工大学 三束实验室自主研发的微波．ECR等离子体源离子注入／沉积设备，利用等离子体 增强非平衡磁控溅射方法，...
基于28个网页-相关网页
...二朱敏教授课题组合作，利用金属配位氢化物较易形成一维链状有机加合物的特性，创新性地提出采用机械力驱动的物理气相沉积(MFPVD)的方法，成功制备出无负载、直径20-40nm的Mg(AlH4)2纳米棒和宽度10-40nm的LiBH4纳米带，显著降低了材料的放氢温度，提高了放氢可...
基于12个网页-相关网页
物理气相沉积法 PVD ; physical vapor deposition ; physical vaporous deosition ; chemical vaporous depositon
激光物理气相沉积 LPVD
电子束物理气相沉积 EB-PVD ; Electron Beam Physical vapor deposition
热壁物理气相沉积法 Hot-Wall PVD ; Wall PVD
热壁物理气相沉积 HWPVD
物理气相沉积技术 PVD ; physical vapor deposition
弧物理气相沉积 CAPVD
物理气相沉积设备 PVD
硬掩模物理气相沉积 hard mask PVD
·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
应用推荐