摘要：超低压化学气相沉积(VLPCVD)设备是目前制备微电子器件材料的重要设备,在它的核心部分--反应室中,由于各种气体处于复杂的过渡流区域,所以它们之间的动力学过程...
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超低压化学气相沉积
Ultra-low pressure chemical vapor deposition
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