采用热化学气相沉积法(thermal chemical vapor deposition,TCVD)在经过高温氨气处理后的硅基铁纳米薄膜表面实现片状碳纳米带的催化生长。通过场发射 .
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采用热化学气相沉积法
The method of thermochemical vapor deposition was used
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从简化步骤、降低成本的角度出发，采用快速热化学气相沉积（RTCVD）法在低纯颗粒带硅（SSP）衬底上制备出了多晶硅薄膜太阳电池。
Polycrystalline silicon thin film solar cell by RTCVD on SSP substrate is prepared so as to simplify the process and lower the cost.
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