虽然SiC、蓝宝石以及硅材料都可以用作基底，但更关注采用高温化学气相沉积法(HTcVD)在Si(：基底上生长大量晶体。基底直径扩展是确保技术成熟与高费效比的关键。
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高温化学气相沉积法
High temperature chemical vapor deposition method
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陶瓷薄膜的制备技术多种多样，如物理气相沉积、化学气相沉积、高温烧结和“溶胶-凝胶”法等。
There are many techniques for fabricating ceramic films such as PVD, CVD, high-temperature sintering and sol-gel method.
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