研究人员以化学气相沉积法(chemical vapour deposition)，将直径2至3 nm的纳米碳管横放在刻有凹槽结构(trench)的二氧化硅基板上，使碳管的一部份横跨凹槽上方，再加入钯(palladium)作为...
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...波 【摘要】：基于等离子体技术的物理气相沉积(Physical Vapour Deposition, PVD)和化学气相沉积(Chemical Vapour Deposition, CVD)是目前低温制备薄膜材料最常用的方法,等离子体的物理特性对薄膜沉积速率和薄膜质量有直接影响。
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研究人员以化学气相沉积法(chemical vapour deposition)，将直径2至3 nm的纳米碳管横放在刻有凹槽结构(trench)的二氧化硅基板上，使碳管的一部份横跨凹槽上方，再加入钯(palladium)作为...
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Chemical vapour deposition CVD 化学气相沉积
chemical vapour deposition unit 化学气相沉积装置
chemical vapour deposition synthe 化学气相沉积合成 ; 化学气相沉积桑特
hot-filament chemical vapour deposition 热丝化学气相沉积
chemical vapour deposition technique [化工] 化学气相沉积技术
Metal Organic Chemical Vapour Deposition 金属有机物化学气相沉积
metal-organic chemical vapour deposition 金属有机汽相外延 ; 化学气相沉积
Chemical Vapour Deposition logo 化学气相沉积
laser chemical vapour deposition 激光化学气相沉积
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Chemical vapour deposition is a preferable method.
化学气相沉积法是最可行的方法。
The present article introduces a new technique of chemical vapour deposition titanium Carbide.
本文介绍了一种新的化学气相沉积碳化钛方法。
Helical carbon nanotubes were synthesized by a chemical vapour deposition method from both silica aerogels and silica xerogels containing catalysts.
采用气凝胶与干凝胶两种催化剂载体通过化学气相淀积方法制备出螺旋状的碳纳米管。
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