direct chemical deposition
2 1．2．1．2直接化学沉积法（Direct Chemical Deposition）……
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direct chemical deposition
直接化学沉积
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Direct current hot cathode plasma glow discharge chemical vapor deposition (DC-HCPCVD) is a new method to deposit high quality diamond films with high growth rate.
直流热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积法是我们建立的快速沉积高品质金刚石膜的新方法。
youdao
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