这些功能有助于掺杂分布工程（dopant profile engineering），其对早期CMOS的出现至关重要。若没有离子注入制程，CMOS也不会得到如此快速的增长，更不会深刻地影响人类生活1。
基于1个网页-相关网页
dopant profile engineering
掺杂剂剖面工程
以上为机器翻译结果，长、整句建议使用 人工翻译 。
应用推荐
模块上移
模块下移
不移动