ebl electron beam direct-write lithography
下一代光刻技术-加工工艺-机电之家网加工工艺栏目 能解决方案。 挑战：极紫外光容易被吸收，必须真空环境；掩膜板很特殊，制作困难；设备的成本很高。 4、电子束直写光刻（EBL，Electron Beam Direct-Write Lithography） 电子束的能量越高，波长越短。一般为0.1nm。利用尺寸非常小的电子束在光刻胶上直写，不需要掩膜板。
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ebl electron beam direct-write lithography
电子束直写光刻
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