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electron beam direct-write lithography

网络释义

  电子束直写光刻

四、电子束直写光刻(EBL,Electron Beam Direct-Write Lithography)电子束的能+量越高,波长越短。一般为0.1nm。

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短语

EBL Electron Beam Direct-Write Lithography 电子束直写光刻

direct write electron beam lithography 直写式电子束光刻

有道翻译

electron beam direct-write lithography

电子束直写光刻

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