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（4）电子束微影（Electron beam lithography） 这部分主要介绍Ying Xu等人的论文【231。他们利用电子束显影法（Electron-beam lithography，EBL）在硅基底上制备二维光子晶体。
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vector scan electron beam lithography 矢量扫描电子束光刻
scanning electron beam lithography 扫描式电子束刻蚀
write electron beam lithography 扫描式电子束光刻
direct write electron beam lithography 直写式电子束光刻
raster scan electron beam lithography 光栅扫描电子束光刻
Electron Beam Lithography Pattern Generator 图形发生器
an electron beam lithography 矢量扫描电子束光刻
electron-beam lithography 电子束蚀刻技术
·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
The electron beam lithography and its improvement are introduced also.
同时还介绍了电子束光刻技术及其改进。
Electron beam lithography machine is the key instrument for mask making and research of nanometer device.
电子束曝光技术是掩模版制作和纳米器件研究的主要手段。
By Fourier transform, produces a fast and accurate calculation for dose precompensation in proximity effect correction for electron beam lithography.
将付里叶变换法运用于电子束曝光的邻近效应校正中，形成了快速、准确的剂量校正法。
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