目前三星电子将CVD(化学气相沉积)与Etcher(蚀刻机)等南韩有能力开发的设备,以及经济效益大的Fab与LCD Process列为首要开发项目;Scanner等技术难度高,然具经济效益的Main设备列为...
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triode etcher 三极管腐蚀装置
multichamber etcher 多室腐蚀装置
tetrode etcher 四极管腐蚀装置
ultrasonic etcher 超声腐蚀装置
glass etcher 玻璃蚀刻雕花机 ; 玻璃蚀刻工 ; 玻璃刻蚀工
magnetron ion etcher 磁控管离子腐蚀装置
Dry etcher 刻蚀机
eletric etcher 电解蚀刻器
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