英特尔的研究人员采用新型高k门电介质（high-k gate dielectric）及制造电晶体门控（transistor gate）的新金属，开发出了高性能晶体管。
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High K gate Dielectric 电介质
high-k gate dielectric 电介质
high-k gate dielectric materials 高k材料
k gate dielectric
K栅电介质
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In this dissertation, we will investigate the application of several high-k dielectric and metal gate process technologies.
在本论文中，吾人将探讨数种高介电系数介电层与金属闸极的研究与应用。
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