于 11 月公开 ,内容是使用激光剥削或切削 (laser ablation or sawing)技术直接在碳 化硅 (SiC)基板上刻出凹槽 ((trenches),再利用旋转涂布法将半导体纳 米晶体或萤光
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laser ablation or sawing
激光消融或锯切
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