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low pressure chemical vapor deposition

  • 低压化学气相沉积

网络释义专业释义

  低压化学汽相淀积

...Low Pin Count 少管脚数量 Low Pressure Chemical Vapor Deposition 低压化学汽相淀积 A chemical vapor deposition process that takes place at moderate temperatures. 一种化学汽相淀积过程,发生在适度的温度下。

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  低压化学气相沉积

...涂层;低压化学气相沉积;相组成;显微组织;均匀性[gap=1234]Key words: ZrC coating; low pressure chemical vapor deposition; phase composition; microstructure; homogeneity..

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  低压化学气

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  低压化学气相沉积系统

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短语

LPCVD Low-Pressure Chemical Vapor Deposition 低压化学气相沉积

  • 低压化学汽相淀积
  • 低压CVD

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双语例句

  • Diamond thin films were successfully deposited on single - crystal si substrate at low pressure by a homemade equipment of electron cyclotron resonance chemical vapor deposition (ECRCVD).

    采用国内研制电子回旋共振化学气相沉积(ECRCVD)设备单晶硅衬底沉积金刚石薄膜

    youdao

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