(2) 金属 层研磨液 ( Metal CMP Slurry ) 金属 层研磨液 最早由. IBM公司的Kauffman 所提出,应用于钨(W) 金属的研磨,现今亦应用于铝 (Al)、铜(Cu)等金属层之研磨 .
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metal cmp slurry
金属CMP浆料
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