等离子体化学气相沉积系统
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plasma chemical vapor deposition system
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The experiment of the deposition of diamond thin films is made on silicon substrate by using microwave plasma chemical vapor deposition (CVD) system.
利用微波等离子体化学气相沉积(CVD)设备，在硅基片上进行了金刚石薄膜的沉积实验。
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