称: 中文名称:复晶矽活性离子蚀刻系统 英文名称:Polysilicon Reactive Ion Etching 英文简称:Poly-Si RIE 三.服务项目: 蚀刻复晶矽、单晶矽等材料。 (试片不得含有参杂及金属) 四.重要规格: 包含两个真空邦浦、一个真空室
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polysilicon reactive ion etching
多晶硅反应离子蚀刻
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