...Kivaisi等人n劬以纯金属钒（纯度99．7％）为原料，采用直流（Dc）和射频（RF）反应磁控溅射法（Reactive magnetron sputtering）在普通玻璃衬底上制备V02薄膜。
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1．4．1反应磁控溅射（Reactive Magnetron Sputtering） 反应磁控溅射法利用辉光放电的原理进行工作，溅射过程中要用到时气和02气，舡作为溅射气体，02作为反应气体，通过流量控制器分别...
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DC reactive magnetron sputtering 直流反应磁控溅射 ; 直流磁控溅射
RF-reactive magnetron sputtering 反应磁控溅射
Direct current reactive magnetron sputtering 磁控溅射法
mid-frequency alternative reactive magnetron sputtering 中频交流反应磁控溅射
reactive magnetron sputtering method 反应磁控溅射法
reactive magnetron sputtering technique 反应磁控溅射法
unbalanced reactive magnetron sputtering 非平衡反应磁控溅射
Using the prepared ALM as template and under suitable conditions,the DC reactive magnetron sputtering technique was employed to deposit the nanostructured zinc oxide films on the template.
采用直流反应磁控溅射法在这种新型模板上沉积得到氧化锌纳米结构薄膜。
参考来源 - 新型模板法制备ZnO纳米结构薄膜及其光学性能研究·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
The kinetic process of reactive magnetron sputtering has been studied.
研究了反应磁控溅射的动力学过程。
Reactive magnetron sputtering was used to prepare many kinds of compound films extensively.
反应磁控溅射被广泛应用于制备化合物薄膜。
Niobium oxide optical thin films have been prepared by low frequency reactive magnetron sputtering system.
利用低频反应磁控溅射制备五氧化二铌光学薄膜。
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