...轻掺杂漏注入工艺LDD(lightly doped drain implants process) CMOS制作步骤(五):侧墙的形成(side wall spacer formation) CMOS制作步骤(六):源/漏注入工艺(S/D implant …
基于12个网页-相关网页
side wall spacer formation
侧壁隔离层
以上为机器翻译结果,长、整句建议使用 人工翻译 。
应用推荐
模块上移
模块下移
不移动