wet anisotropic etching process
wet anisotropic etching process
湿法各向异性蚀刻工艺
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The present invention relates to combined dry and wet etching process for multilayer film, especially in anisotropic magnetic resistance effect (AMR) sensor manufacture.
本发明涉及多层膜的蚀刻方法，特别是各向异性磁电阻效应(amr)传感器制造中所使用的多层膜的蚀刻方法。
youdao
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