氧化硅(Silicon oxide)是目前最常见的绝缘材料,运用在几乎所有的CMOS芯片中;该种材料在1960年代首度特征化,工程师会刻意将氧化硅沉积出厚度,以避免...
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适合作为绝缘层的无机材料的举例性的例子包括 二氧化硅 ( silicon oxide ),氮化硅,氧化铝,钛酸钡,钛酸钡锆等;用于绝缘层的有机聚合物的举例性的例子包括聚酯,聚碳酸酯,聚(乙烯基苯酚),聚酰亚胺...
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28-6中文名:一氧化硅英文名:Silicon oxide中文别名:一氧化硅Silicon monoxide英文别名:Silicon oxideoxo-silylen 性质:块状或粉末体,块状为黑色甲壳状不规则块体。粉
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Magnesium silicon oxide 三硅酸镁 ; 三硅酸二镁
silicon oxide absorption peak 硅氧化物吸收峰
silicon rich silicon oxide 富硅氧化硅 ; 富si氧化硅
silicon oxide growth 硅氧化物生长
doped silicon oxide 掺杂氧化硅
triethyl-silicon oxide 二三乙基甲硅醚 ; 双氧化硅
silicon oxide metallic ceramics 含二氧化硅金属陶瓷
Undoped Silicon Oxide 未掺杂氧化硅
Herein, we have tried to synthesize silicon oxide materials using kettle as equipment.
因而我们尝试了采用高压釜制备氧化硅纳米材料。
参考来源 - 高压釜制备线状和网状纳米氧化硅及其光致发光·2,447,543篇论文数据,部分数据来源于NoteExpress
同义词: silica silicon dioxide
以上来源于: WordNet
OBJECTIVE To develop oral mucosal ointment of organic silicon oxide and evaluate its matrix.
目的研制有机硅氧化物类口腔黏膜药膏及对其基质进行评价。
Usually, the first layer is of silicon oxide, an insulator, which is etched to a desired thickness.
通常,第一层为氧化硅,绝缘体,其被蚀刻至所需的厚度。
At the same time, the influence of plasma charging and ion bombardment on the quality of silicon oxide are analyzed.
我们同时对反应离子刻蚀工艺中的等离子体充电效应和离子轰击对氧化硅造成的损伤进行了讨论。
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