光刻机

光刻机

/ guāng kè jī /

简明

1
lithography machine
光刻机；
2
photoetching machine
光刻机；

网络释义
专业释义

1
Stepper
重分布层的理想Line/Space分辨率为1微米/1微米，换言之，重复对准光刻机(Stepper/Scanner)必须用作光刻曝光用途。这些系统的检视范围非常小，晶圆与载具精准的对位可确保对位键都能在曝光机窗口范围内。
2
lithography machine
... lithography 光刻 lithography machine 光刻机 lna 低噪声放年夜器 ...
3
DSW
关键词双分探测器，对准，算法，精度1引言直接分来投影 光刻机 （ DSW ）是大规模集成电路制造中的重要设备，而自动对准技术又是分步投…

短语

1
投影光刻机
电子 projection mask aligner
2
自动投影光刻机
automatic projection photoetching machine
3
接近式光刻机
proximity aligner ; aligner proximity type

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双语例句

1
另外，尼康光刻机业务也开始扭亏为盈。
Nikon is also reversing its losses in lithography.
2
阐述高分辨力光刻机的图像对准系统的原理及实现过程。
The principle and implementation of high precision video based alignment system are described.
3
这位分析师还表示：“尼康在LCD光刻机市场上仍保持强势地位。
Nikon remains strong in LCD stepper.

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百科

光刻机
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System. 一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。 Photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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