[电子] Photoresist
关键词:ITO玻璃基板;光刻胶;涂胶厚度;涂胶均匀性;涂胶缺陷 [gap=692]Key words: ITO glass; Photoresist; Film thickness; Film equality; gelatinizing defect ...
optical resist
... optical recording arch 光记录头 optical resist 光刻胶 optical resonator atrium 光空腔谐振器 ...
PHOTORESIST MATERIALS
... ╠╠环氧树脂粘合剂epoxy adhesives ╠╠光刻胶photoresist materials ╠╠包封剂encapsulants ...
光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的,以后才用于电子工业。光刻胶是一种有机化合物,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。