光掩膜

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Photo Mask
...的蚀刻技术及成熟的生产工艺，生产高质量、高技术的显示管和显像管用荫罩板（Shadow Mask）、液晶显示器件用光掩膜（Photo Mask）、半导体集成电路用引线框架（Lead Frame）和衬底（Tape Substrate）以及等离子体显示器件用后面板（Rear Panel）等超精密度数字...
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photo tool
... photo field emission光场致发射 photo tool光掩膜 photoacadiosic effect光声效应 ...
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photographic mask
... photogrammetry 照相量度 photographic mask 光掩膜 photographic memory 照相存储器 ...
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solid ground curing
...掩膜 electron beam mask ; electron beam reticle 光掩膜 photomask ; photo tool ; photographic mask ; solid ground curing 阱形成掩膜 p well mask ..

短语

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光掩膜是半导体和精密加工的必要成分。
A photomask is an essential component for semiconductor manufacturing and microfabrication.
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此图显示的就是光掩膜，上面印有将打印到硅晶片上的图案。
Shown here is a photomask, which bears the patterns that will be printed onto a wafer.
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平板印刷室里面点着黄色的灯，避免光掩膜与紫外线相互干扰。
The lithography room is lit with yellow light to avoid interference with the UV light used with the photomasks.

光掩膜
在半导体制造的整个流程中，其中一部分就是从版图到晶圆（wafer）制造中间的一个过程，即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分，是流程中造价最高的一部分，也是限制最小线宽的瓶颈之一。

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