Photosensitive Seal
光敏印章
CXC-GM ; LY-XG
光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的,它是由一种特殊的化工合成材料,通过专用设备瞬间发出强光辐射,使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。 光敏印章的面世可以说是印章行业的一次革命,完全颠覆了传统印章的凹凸成像原理。利用特殊感光材料制成。具有成像极其清晰,无需印泥,即印即干的特点。其印迹可与印刷品质媲美,是目前最好的、最先进的印章产品,美观耐用,无须印台。(一次注油可印1000次以上,并可反复注油。) 作为目前国际上最新型的一种印章,它以制作简单快捷,印章清晰,使用寿命长,适用性强,在我国得以迅速推广,成为我国印章行业升级换代产品,随着公安部标准GA241.9―2000的颁布实施,光敏印章已被认定为符合标准的首选印章。