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CXC-GM ; LY-XG
XY-SA
Photosensitive Seal
光敏平面橡胶渗透印章简称光敏章又称为平面橡胶印章光敏印章制作技术是于1998年初从日本引进我国大陆的该印章具有方便既印即干等特点盖出印迹具有标准规范其制作工艺简单快速 光敏章