Critical Dimension
在开发关键尺寸(critical dimension,CD)更小、集成度(integration)更高的工艺技术中,微影工艺(photolithography)是重要的关键步骤之一。
key dimensions
... racquet » (名) 球拍, 球拍型雪鞋, 拍球戏之一种 key dimensions » 关键尺寸 PRAMOTION FACTORY » PRAMOTION厂 ...
CD
...面活性剂,激光蚀刻,微结构蚀刻, flectivecoatinglayer)结构(19)中之特点(feature)(56,57,59)的关键尺寸(criticaldimension,CD)的方法可使用聚合剂。抗反射涂层结构可用以形成多种集成电路结构。
关键尺寸(Critical Dimension,简称CD)是指在集成电路光掩模制造及光刻工艺中为评估及控制工艺的图形处理精度,特设计一种反映集成电路特征线条宽度的专用线条图形。