物理气相沉积法

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PVD
薄膜制备技术可以根据成膜的特点以及使用成膜材料的化学成分和物理化学性能分为以下几种[1]:物理气相沉积法(PVD):在物理蒸气沉积中,膜产生在固体表面上,是由元素和化合物从蒸气相凝结而成的,其原理一般为纯粹的物理效应,但有时也可以与化学效应...
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physical vapor deposition
物理气相沉积法：物理气相沉积法 (Physical vapor deposition)是利用某种物理过程，如物质的蒸发或在受到粒子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移的过程 ...
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physical vaporous deosition
... 化学气相沉积法chemical vaporous depositon 物理气相沉积法physical vaporous deosition 喷镀sputter ...
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chemical vaporous depositon
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短语

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采用铝蒸汽的物理气相沉积法是织物表面金属化的有效方法。
The physical sedimentation of aluminium vapour in gas phase is an effective process to metallize the surface of a fabric.
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用物理气相沉积法在水平系统中生长有机半导体并五苯晶体薄膜。
Physical vapor deposition in horizontal systems has been used for the growth of crystal thin-film of organic semiconductor pentacene.
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并探讨了物理气相沉积涂层法对泡沫橡胶表面进行处理的可行性。
The feasibility of the foam rubber surface processing by physical vapor deposit coating was discussed.

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