dc magnetron reactive sputtering process
...直流反应磁控溅射； 沉积速率 TB43 中图分类号： 文献标识码： A 文章编号 ： 1002-0322 （2009）02-0045-04 [gap=1162]Key words： ZAO film; DC magnetron reactive sputtering process; deposition rate ..
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dc magnetron reactive sputtering process
直流磁控反应溅射工艺
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