...紫外线曝光显影技术(deep-UV photolithography)、电子束微影(E-beam lithography)以及聚焦離子束蚀刻(focused ion-beam etching)26 半导体制程技术优缺点 优点：1. 半导体的制程技术使得光子晶体二维平面结构的制作变得容易，有利于未來量产制作的实现。
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