借由布局图，可做成晶圆加工制程中所需要的各道光罩〈mask or reticle〉。 接下来的晶圆加工制程，可以说是整个IC制作流程中最复杂、资金及技术最密集的一部份。
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mask or reticle
掩模或标线
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A small undesired hole in an oxide opaque region of a mask or reticle or in a photoresist layer.
氧化物、掩模或标线的不透明区域，或光刻层中不需要的小孔。
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