定义. 中文名称：: 反应离子镀 ; 英文名称：: reactive ion plating; 定义：: 引入 化学 反应 的 离子镀 。 应用学科：: 机械工程（一级学科）；表面工程（二级学科）；气相 沉积（二级学科）. 以上内容由全国科学技术名词审定委
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activated reactive ion plating 活性反应离子镀
low voltage reactive ion plating 低压反应离子镀
Reactive low voltage ion plating 低压反应离子镀
reactive ion beam plating 反应离子束镀
low-voltage ion reactive plating 低压反应离子镀
Low voltage high current reactive ion plating is a new progress in the field of optical thin films deposition techniques.
光学薄膜低压大电流反应离子镀技术是近年来光学薄膜技术领域中的最新进展。
ABSTRACT: in this paper a reactive ion plating method and system configuration of Gas ion source enhanced Magnetron Sputtering (GIMS) is presented in details.
摘要：本文详细介绍了气体离子源增强磁控溅射(气离溅射)反应离子镀膜技术和系统配置。
High quality ITO transparent conductive film was prepared by reactive low voltage ion plating technique, which is different to the most common sputtering method to deposit ITO film.
溅射镀膜方法是制备ito透明导电膜最常用也是实验研究最多的方法。
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