它包括射频磁控溅射、反应溅射、多元靶溅射及离子束溅射等，通常使 用直流溅射、射频磁控溅射(RF magnetron sputtering)和离子束溅射来制备PZT 薄膜。
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最高3 制备方法目前制备锆钛酸铅镧铁电薄膜的方法有多种 ,主要有射频磁控溅射法 (RF magnetron sputtering) ,脉冲激光沉积 (PLD)法 ,金属有机物化学气相沉积 (MOCVD)、溶胶 2 凝胶法 ( sol2gel) ,分子束外延法 (MBE) ,金属有机物热解法 (...
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2．1．3射频磁控溅射技术（RF magnetron sputtering） 在靶阴极内侧装永久磁铁，磁铁分别放置在靶的中心和靶的边缘，且极性相反，从而产生平行于靶表面的磁场分量B，并垂.
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reactive RF magnetron sputtering 反应rf磁控溅射
helicon RF magnetron sputtering 交流螺旋磁控溅射
RF magnetron sputtering method 射频磁控溅射
rf magnetron sputtering technique 射频磁控溅射技术
deposited by rf magnetron sputtering rf磁控溅射
RF-reactive magnetron sputtering 反应磁控溅射
RF magnetron reactive sputtering 射频磁控反应溅射
rf magnetron reactive sputtering method 射频磁控反应溅射法
The preparation of crystalline Ce:YIG on amorphous silica substrate by RF magnetron sputtering method is discussed in this thesis.
在二氧化硅基片上用射频磁控溅射法制备Ce:YIG薄膜,也是论文的一部分工作。
参考来源 - 基于磁光薄膜波导的集成光隔离器的研究TiO2 thin films of 150 nm thickness were deposited on the Si substrates and quartz substrates by RF magnetron sputtering technique.
利用射频磁控溅射,在硅和石英基底上制备了厚度为150 nm的TiO2薄膜。
参考来源 - 退火温度对TiO·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
All samples were prepared by rf magnetron sputtering method.
所有样品采用射频辅助磁控溅射方法制备。
Quadrupole mass spectrometer was used to analyze the plasma environment of RF magnetron sputtering PTFE target with pulsed bias.
采用四极质谱仪测量了试验参数对高压脉冲增强射频磁控溅射ptfe靶等离子体气氛的影响规律。
Thin films of lead lanthanum zirconate titanate (PLZT) were deposited by rf magnetron sputtering from oxide targets onto unheated Si substrates.
用磁控射频溅射方法在不加热的硅衬底上沉积生长锆钛酸铅镧（PLZT）薄膜。
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