近来UV纳米压印光刻（UV-NIL）技术取得了一定的进展，它可以利用商用系统通过次级印模的分步重复制模工艺制造主印模。
基于48个网页-相关网页
纳米压印技术主要包括热压印(HEL)、紫外压印 (UV-NIL)、步进一闪光压印技术以及微接触印刷(FCP)，最有可能进入集成电路量产的应属步进一闪光压印技术。
基于38个网页-相关网页
...压 印光刻工艺主要包括热压印(Hot embossing lithography，HEL)、紫外纳米压印(Ultra- violet nanoimprint lithography ，UV-NIL) 和微接触印刷(Microcontact print ，μ-CP， MCP) 。
基于1个网页-相关网页
·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress